真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發(fā)和離子濺射。真空蒸發(fā)鍍膜是在真空度不低于10-2Pa的環(huán)境中,用電阻加熱或電子束和激光轟擊等方法把要蒸發(fā)的材料加熱到一定溫度,使材料中分子或原子的熱振動能量超過表面的束縛能,從而使大量分子或原子蒸發(fā)或升華,并直接沉淀在基片上形成薄膜。離子濺射鍍膜是利用氣體放電產(chǎn)生的正離子在電場的作用下的高速運動轟擊作為陰極的靶,使靶材中的原子或分子逸出來而沉淀到被鍍工件的表面,形成所需要的薄膜。
真空蒸發(fā)鍍膜常用的是電阻加熱法,其優(yōu)點是加熱源的結(jié)構(gòu)簡單,造價低廉,操作方便;缺點是不適用于難熔金屬和耐高溫的介質(zhì)材料。電子束加熱和激光加熱則能克服電阻加熱的缺點。電子束加熱上利用聚焦電子束直接對被轟擊材料加熱,電子束的動能變成熱能,使材料蒸發(fā)。激光加熱是利用大功率的激光作為加熱源,但由于大功率激光器的造價很高,目前只能在少數(shù)研究性實驗室中使用。
濺射技術(shù)與真空蒸發(fā)技術(shù)有所不同?!盀R射”是指荷能粒子轟擊固體表面(靶),使固體原子或分子從表面射出的現(xiàn)象。射出的粒子大多呈原子狀態(tài),常稱為濺射原子。用于轟擊靶的濺射粒子可以是電子,離子或中性粒子,因為離子在電場下易于加速獲得所需要動能,因此大都采用離子作為轟擊粒子。濺射過程建立在輝光放電的基礎(chǔ)上,即濺射離子都來源于氣體放電。不同的濺射技術(shù)所采用的輝光放電方式有所不同。直流二極濺射利用的是直流輝光放電;三極濺射是利用熱陰極支持的輝光放電;射頻濺射是利用射頻輝光放電;磁控濺射是利用環(huán)狀磁場控制下的輝光放電。濺射鍍膜與真空蒸發(fā)鍍膜相比,有許多優(yōu)點。如任何物質(zhì)均可以濺射,尤其是高熔點,低蒸氣壓的元素和化合物;濺射膜與基板之間的附著性好;薄膜密度高;膜厚可控制和重復(fù)性好等。缺點是設(shè)備比較復(fù)雜,需要高壓裝置。此外,將蒸發(fā)法與濺射法相結(jié)合,即為離子鍍。這種方法的優(yōu)點是得到的膜與基板間有極強的附著力,有較高的沉積速率,膜的密度高。
產(chǎn)品名稱:pet高光膜
產(chǎn)品特點:具有閃閃發(fā)光的特性,具有阻燃的效果,使用范圍廣,靈活性好等等
產(chǎn)品用途:應(yīng)用外包裝、文具、禮品袋、煙酒、化妝品、燈飾、建材、窗貼、不干膠、鞋材,膠印,凹印,絲印,柯式印刷,特種印刷等,目前在家居 浴簾,臺布,手袋,包袋,包裝、文具、禮品、化妝品、燈飾、建材、廣告裝璜、不干膠、鞋業(yè)、運動器
咸寧市華福包裝材料有限公司主要生產(chǎn)和經(jīng)營高真空鍍鋁紙(啤酒標用鍍鋁紙、禮品包裝用鍍鋁紙和煙盒內(nèi)襯用鍍鋁紙)、鐳射紙,雙向拉伸聚酯鍍鋁膜(VMPET),雙向拉伸聚酯彩色鍍鋁膜(COLORED VMBOPET),鍍鋁扭結(jié)膜以及鍍鋁無紡布等。
鍍鋁膜具有對紫外線和紅外線有良好的反射能力,達到阻隔紫外線作用,同時能使薄膜提高隔氧,阻濕作用,又具有金屬光澤。
鍍鋁膜的加工方法就是在高真空狀態(tài)下通過高溫將金屬鋁汽化蒸發(fā),使鋁的蒸汽使鋁的蒸汽沉淀堆積到塑料薄膜表面上,從而形成的一種復(fù)合軟包裝材料。鍍鋁膜具有優(yōu)良的阻氣性、阻濕性、遮光性和保香性,可以延長內(nèi)容物的保質(zhì)期。由于其外觀漂亮,還可以在一定程度上替代鋁箔,降低包裝的成本,常用于普通的小食品包裝,如膨化食品、餅干、榨菜等。在醫(yī)l藥、茶葉、奶粉等高l檔包裝中也經(jīng)常使用。但是鍍鋁膜復(fù)合后極易出現(xiàn)鍍鋁轉(zhuǎn)移、白斑、隧道等現(xiàn)象,給包裝生產(chǎn)企業(yè)也帶來了不小的損失。
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