真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發(fā)和離子濺射。真空蒸發(fā)鍍膜是在真空度不低于10-2Pa的環(huán)境中,用電阻加熱或電子束和激光轟擊等方法把要蒸發(fā)的材料加熱到一定溫度,使材料中分子或原子的熱振動(dòng)能量超過(guò)表面的束縛能,從而使大量分子或原子蒸發(fā)或升華,并直接沉淀在基片上形成薄膜。離子濺射鍍膜是利用氣體放電產(chǎn)生的正離子在電場(chǎng)的作用下的高速運(yùn)動(dòng)轟擊作為陰極的靶,使靶材中的原子或分子逸出來(lái)而沉淀到被鍍工件的表面,形成所需要的薄膜。
真空蒸發(fā)鍍膜常用的是電阻加熱法,其優(yōu)點(diǎn)是加熱源的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,造價(jià)低廉,操作方便;缺點(diǎn)是不適用于難熔金屬和耐高溫的介質(zhì)材料。電子束加熱和激光加熱則能克服電阻加熱的缺點(diǎn)。電子束加熱上利用聚焦電子束直接對(duì)被轟擊材料加熱,電子束的動(dòng)能變成熱能,使材料蒸發(fā)。激光加熱是利用大功率的激光作為加熱源,但由于大功率激光器的造價(jià)很高,目前只能在少數(shù)研究性實(shí)驗(yàn)室中使用。
濺射技術(shù)與真空蒸發(fā)技術(shù)有所不同。“濺射”是指荷能粒子轟擊固體表面(靶),使固體原子或分子從表面射出的現(xiàn)象。射出的粒子大多呈原子狀態(tài),常稱(chēng)為濺射原子。用于轟擊靶的濺射粒子可以是電子,離子或中性粒子,因?yàn)殡x子在電場(chǎng)下易于加速獲得所需要?jiǎng)幽?,因此大都采用離子作為轟擊粒子。濺射過(guò)程建立在輝光放電的基礎(chǔ)上,即濺射離子都來(lái)源于氣體放電。不同的濺射技術(shù)所采用的輝光放電方式有所不同。直流二極濺射利用的是直流輝光放電;三極濺射是利用熱陰極支持的輝光放電;射頻濺射是利用射頻輝光放電;磁控濺射是利用環(huán)狀磁場(chǎng)控制下的輝光放電。濺射鍍膜與真空蒸發(fā)鍍膜相比,有許多優(yōu)點(diǎn)。如任何物質(zhì)均可以濺射,尤其是高熔點(diǎn),低蒸氣壓的元素和化合物;濺射膜與基板之間的附著性好;薄膜密度高;膜厚可控制和重復(fù)性好等。缺點(diǎn)是設(shè)備比較復(fù)雜,需要高壓裝置。此外,將蒸發(fā)法與濺射法相結(jié)合,即為離子鍍。這種方法的優(yōu)點(diǎn)是得到的膜與基板間有極強(qiáng)的附著力,有較高的沉積速率,膜的密度高。
彩色鍍鋁膜特點(diǎn):
鍍鋁層的附著力強(qiáng),亮度較好,有良好的阻隔作用
1.適宜的阻隔性與滲透性好—包括阻氣包裝、防潮包裝、防水包裝、保香包裝。易于包裝因氧氣、水分作用而氧化變質(zhì)、發(fā)霉腐爛的食品等材料?;瘜W(xué)穩(wěn)定性好,
2.對(duì)一般的酸、堿、鹽等介質(zhì)有良好的抗耐能力,較之金屬包裝有很強(qiáng)的優(yōu)勢(shì)。光學(xué)性能優(yōu)良,具有很好的透明性可以清楚地看內(nèi)裝物,起到良好的展示、促銷(xiāo)效果。
3.還能染上美麗的圖形、印刷上裝潢圖案。還可以高速自動(dòng)成型、灌裝、熱封,生產(chǎn)。
咸寧市華福包裝材料有限公司主要生產(chǎn)和經(jīng)營(yíng)高真空鍍鋁紙(啤酒標(biāo)用鍍鋁紙、禮品包裝用鍍鋁紙和煙盒內(nèi)襯用鍍鋁紙)、鐳射紙,雙向拉伸聚酯鍍鋁膜(VMPET),雙向拉伸聚酯彩色鍍鋁膜(COLORED VMBOPET),鍍鋁扭結(jié)膜以及鍍鋁無(wú)紡布,鐳射紙,急救毯,pet金膜等。
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